GR2 丸型チタンスパッタリングターゲット

「チタンスパッタリングターゲット」の「ターゲット」という言葉は、私たちの日常生活でよく使われるターゲット材料に由来しています。 スパッタリング成膜プロセスでは、ターゲットを攻撃するのと同じように、コーティング材料に電子ビームまたはイオンビームが衝突するため、スパッタリングプロセスで使用される材料は「スパッタリングターゲット」と呼ばれます。

 

メタルチタンからチタンスパッタリングターゲットへ

チタンスパッタリングターゲットは、金属チタンを原料としてスパッタリングによりチタン膜を製造するチタン製品です。 チタンスパッタリングターゲットの製造方法を簡単に説明すると、「金属チタン鋳造法」と「粉末冶金法」の2種類があります。

 

鋳造：原料を一定の割合で溶かし、合金溶液を型に流し込みインゴットを形成し、最終的にスパッタリングターゲットに加工します。 真空中で溶解・鋳造する方法です。

 

粉末冶金：原料を一定の割合で溶かし、インゴットに鋳造し、粉砕して静水圧プレスし、高温で焼結してターゲットを作ります。

 

 

製品名：チタンターゲットスパッタリング

材質：純チタン：GR1 GR2

Purity >= 99.6%

用途:金物、装飾、工具、セラミック、ゴルフ、その他の塗装産業。

寸法：

円形スパッタリングターゲット：Φ100×40、Φ95×45、Φ80×40、Φ90×40、Φ85×35およびその他の特定のサイズ。

 

チューブスパッタリングターゲット：Φ70×7×L900--2000mm、Φ89.4mmX7.62mmX1728mm、Φ89.4mmX15mmX1728mm、Φ80mmX10mmX1728mm、その他の特定のサイズ。

 

プレートスパッタリングターゲット: T6-40×W60--800×L600--2000mmおよびその他の特定のサイズ。

お客様のニーズに応じて合金ターゲットをさまざまな割合でカスタマイズできます

 

詳細画像:

 

 

 

材料：

1) Ti/Al合金ターゲット(67:33,50:50at%)

 

2) W/Ti合金ターゲット(90:10wt%)、

 

3) Ni/V 合金ターゲット (93:7、wt%)

 

4) Ni/Cr 合金ターゲット (80:20、70:30、wt%)、

 

5) Al/Cr合金ターゲット(70:30,50:50at%)

 

6) Nb/Zr 合金ターゲット (97:3、90:10wt%)

 

7) Si/Al 合金ターゲット (90:10、95:5、98:2、70:30、wt%)

 

8) Zn/Al合金ターゲット

 

9) 高純度クロムターゲット(99.95%、99.995%)

 

10) Al/Cr合金ターゲット(70:30、50:50、67:33、at%)

 

11) Ni/Cu 合金ターゲット (70:30、80:20、wt%)

 

12) Al/Nd 合金ターゲット (98:2wt%)

 

13) Mo/Nb 合金ターゲット (90:10、wt%)

 

14) TiAlSi 合金ターゲット (Ti/Al/Si=30/60/10、33/67、40/50/10、wt% および at%)

 

15)CrAlSi合金ターゲット(Cr/Al/Si=30/60/10、wt%およびat%)

 

 

3.工場

 

 

4.梱包と配送

 

 

---1。 密封された梱包は、カートンケースまたは標準の標準合板ケースに入れられます。

---2。顧客のロゴが入った専用のカスタム カートンを使用し、個別にパッケージ化することで、購入者が直接販売できるようにします。

---顧客の要求を受け入れる

 

各パッケージがお客様専用に作られていることを確認してください。商品を受け取ったときに損傷がないことを確認してください。

 

 

チタン製品はまだまだございます。 必要であればカタログをお送りします。

 

 

 

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